檢索結果:共14筆資料 檢索策略: "Sheng-Dong Xu".ecommittee (精準) and cadvisor.raw="郭鴻飛"
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三維先進封裝可以透過層層堆疊擴展每個3D芯片的功能,遠遠超出傳統縮放的能力,然而進一步的尺寸小型化為半導體行業帶來了巨大的挑戰,其中在晶圓鍵合過程中對準量測技術為關鍵的製程步驟,在鍵合前能夠準確將晶…
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在記憶體DRAM製造的過程中,透過微影製程技術將設計之光罩轉印至光阻為一項至關重要的技術,但隨著線寬持續微縮,193nm浸潤式微影製程上達到物理極限,必須透過解析度增強技術(Resolution E…
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微影製程是半導體產業不斷前進的重要技術,透過將微縮線路用光學投影在晶圓上,將特徵尺寸不斷縮小,而數位微影製程捨棄了對光罩的使用,能透過如數位微反射鏡(Digital Micromirror Devi…
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外殼包覆之奈米粒子表面增強拉曼散射(Shell Isolated Nanoparticle Enhanced Raman Spectroscopy, SHINERS)技術是目前非常具有吸引力的方法,…
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由於機器學習在各領域應用的崛起,機器學習已經廣泛的應用在圖像辨識、資料探勘、語音辨識與處理、搜尋引擎、醫學診斷、金融模型設計等,訓練機器學習模型模仿人類的經驗已經成為趨勢,並使用機器學習取代重複性高…
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在半導體的先進製程中,對準誤差量測技術(Overlay Metrology)為關鍵的製程步驟,準確地測量出積體電路層與層之間的對準誤差(Overlay),可以有效減少製程的重工率進而降低製程成本。D…
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微影製程有兩項重要指標,一能將光罩圖案潛像(Aerial Image)正確的轉移至光阻基材上,二提供足夠製程視窗(Process Window)以供應穩定的製程良率。本研究目的在針對投影式微影系統開…
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本論文致力於分析六軸串連式機械手臂的路徑規劃。傳統的路徑規劃是以初始位置,末位置及軌跡長短來做計算。應用一個修正的滑動模型控制器取代傳統的PID控制器。修正的滑動模型控制是要解決傳統滑動模型控制器的…
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在數位微影製程中,像差對半導體和微機電系統製造品質的影響至關重要, 因此,有效地校正由數位微影系統產生的畸變是提升製程良率的重大研究議題。 在本篇研究中,我們深入探討數位微影系統的畸變補償問題,並提…
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近幾十年來半導體業廣泛應用微影技術將電路設計的圖形轉印至矽晶圓基板上,但隨著關鍵尺寸(Critical Dimension)的日漸微縮,物理的極限以及因越趨複雜的設計進而產生的曝光缺陷皆是製程上必須…